新书9月12日消息,半导体巨头英飞凌科技近日宣布,公司已成功开发出全球首款300毫米(约12英寸)功率氮化镓(GaN)晶圆技术。
与现有的200毫米晶圆相比,300毫米晶圆技术意味着可以在单个晶圆上制造更多的芯片,从而提高生产效率和规模经济。
这一技术进步不仅可以增加每个晶圆的芯片产量,达到2.3倍,还可以降低生产成本,使氮化镓技术更加经济高效。
由于其在效率、尺寸和重量方面的优势,氮化镓功率半导体在工业、汽车、消费电子、计算和通信应用中得到了迅速的应用。
英飞凌将于2024年11月在慕尼黑举行的电子展上展示其300毫米GaN技术。
该公司在奥地利菲拉赫的电力工厂成功制造了300毫米Gan晶圆,并计划根据市场需求进一步扩大生产能力。
英飞凌科技有限公司首席执行官Jochen Hanebeck说:“这一显著的成功是我们创新实力和全球团队专注工作的结果,旨在展示我们作为氮化镓和电力系统创新的领导者的地位。这一技术突破将改变行业游戏规则,释放氮化镓的所有潜力。”
[本文结尾]如需转载,请务必注明出处:新书
责任编辑:黑白
文章内容报告
还没有评论,来说两句吧...